ASML

美股財報季已進入尾聲，科技巨頭多數已公布業績，市場目前屏息以待全球市值最高的公司發布最新數據。輝達(NVDA)作為人工智慧熱潮的核心引擎，將於週三盤後公布財報。這份報告不僅牽動美股，包括ASML(ASML)在內的歐洲科技大廠也將密切關注，視其為全球AI投資週期的重要風向球。VanEck產品經理Cam

全球微影設備霸主 ASML 近日拋出技術震撼彈，宣示已掌握將 EUV 光源功率從 600 瓦提升至 1000 瓦的關鍵技術，目標在 2030 年前讓晶片產量激增五成。這項突破意味著每小時晶圓處理量將從 220 片跳升至 330 片，這對擁有全球最大 EUV 機台規模的台積電(2330)而言，無疑是產

根據 Reuters 報導，半導體設備大廠 ASML(ASML) 近日展示了極紫外光（EUV）微影設備在光源技術上的重大進展。這項技術升級有望在 2030 年前，將晶片製造的產量大幅提升 50%，為全球半導體產能帶來顯著的增長動能。拒絕紙上談兵！實測功率達1000瓦展現量產實力ASML(ASML)

ASML推出全新極紫外光刻機光源技術，預計至2030年可提升晶片生產效率50%，引發業界關注。 .badgeprice-container {
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半導體先進製程的「軍備競賽」進入新回合，全球微影設備霸主艾司摩爾(ASML)近日釋出重磅技術訊號，意圖透過大幅提升生產效率，築高對抗美、中競爭對手的護城河。ASML 研究團隊已掌握關鍵技術，計畫將極紫外光（EUV）微影設備的光源功率，從現行的 600 瓦特一舉推升至 1,000 瓦特。這項突破不僅是

全球半導體設備龍頭ASML(ASML)的研究人員宣佈在極紫外光（EUV）技術上取得重大突破，透過提升關鍵設備的光源功率，預計在2030年前能將晶片產量提高50%。ASML(ASML)作為全球唯一能生產商用EUV曝光機的製造商，此技術進展對於台積電(TSM)、Intel(INTC)等主要客戶至關重要，

全球半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)的研究人員近日宣佈一項重大技術突破，成功將極紫外光(EUV)微影設備的光源功率大幅提升。這項新技術能將光源功率從目前的600瓦提高至1000瓦，預計在2030年之前，能讓先進晶片的產量增加高達50%。此舉旨在協助這家荷蘭巨頭在面對美國與中國新興競爭對手時，持續保

荷蘭ASML公司宣佈其新技術可將EUV光源功率提升至1000瓦，預計到2030年每小時可生產330片矽晶圓。 .badgeprice-container {
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AI 算力重心轉向製造端，設備族群脫離盤整重啟主升段回顧上週（2/16-2/20），美股半導體板塊在經歷年初的修正後，資金明顯回流至供應鏈最上游的材料與設備端。核心驅動力來自於全球主要晶圓代工廠紛紛上修 2026 年資本支出指引，以應對 2nm 與 A16 製程的產能爭奪戰。市場已達成共識：AI 晶

根據追蹤網站 Layoffs.fyi 的最新數據顯示，科技產業的裁員步伐在經歷了2024年與2025年的放緩後，於2026年開春再度加速。截至目前為止，科技圈已裁減超過26,000名員工。值得注意的是，這波精簡人力的主因並非外界普遍猜測的人工智慧(AI)取代人力，多家大型企業將大規模裁員計畫歸因於減